LED技術(shù)自誕生以來，經(jīng)歷了從固態(tài)照明電源、顯示領(lǐng)域的背光到LED顯示屏的多個發(fā)展階段。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，LED顯示屏的像素尺寸逐漸減小，但傳統(tǒng)的LED顯示屏在像素細(xì)膩程度、亮度、對比度等方面仍存在不足。
為了克服傳統(tǒng)LED顯示屏的局限性，Micro LED技術(shù)應(yīng)運而生。Micro LED通過在一個芯片上集成高密度微小尺寸的LED陣列，實現(xiàn)了LED的薄膜化、微小化和矩陣化，其像素點距從毫米級別降至微米級別，從而顯著提升了顯示性能。
Micro LED技術(shù)，作為顯示領(lǐng)域的新星，正逐步走進(jìn)大眾的視野。這項集高密度、高亮度、高色彩飽和度以及快速響應(yīng)于一身的技術(shù)，被視為未來顯示技術(shù)的重要發(fā)展方向。然而，要真正實現(xiàn)大規(guī)模商業(yè)化應(yīng)用，Micro LED還需跨越重重難關(guān)。
一、Micro LED技術(shù)概覽
Micro LED技術(shù)，即LED的微縮化與矩陣化技術(shù)，代表了在單個芯片上集成高密度、微小尺寸的LED陣列的創(chuàng)新。這一技術(shù)使得LED顯示屏的每個像素都能被定址并單獨驅(qū)動點亮，可視為戶外LED顯示屏的微縮版本，其像素點間距已從毫米級降至微米級。
而Micro LED顯示屏，則是采用標(biāo)準(zhǔn)的CMOS集成電路制造工藝在底層制作LED顯示驅(qū)動電路，隨后利用MOCVD設(shè)備在集成電路上制作LED陣列，從而實現(xiàn)了微型顯示屏的制造，即LED顯示屏的縮小版。
Micro LED的像素單元尺寸在100微米（P0.1）以下，并被高密度地集成在芯片上。這種微縮化設(shè)計賦予了Micro LED更高的發(fā)光亮度、分辨率與色彩飽和度，以及更快的顯示響應(yīng)速度。因此，它預(yù)期能夠應(yīng)用于對亮度要求較高的增強現(xiàn)實（AR）微型投影裝置、車用平視顯示器（HUD）投影應(yīng)用、超大型顯示廣告牌等特殊顯示應(yīng)用產(chǎn)品，并有望擴(kuò)展到可穿戴/可植入器件、虛擬現(xiàn)實（VR）、光通訊/光互聯(lián)、醫(yī)療探測、智能車燈、空間成像等多個領(lǐng)域。
顧名思義，Micro LED即“微型”LED。作為一種新興顯示技術(shù)，它與其他顯示技術(shù)（如LCD、OLED、PDP）的核心區(qū)別在于其采用無機LED作為發(fā)光像素。對于“Micro”這一概念，其像素尺寸通常需達(dá)到100微米以下。
LED并非新鮮事物，作為發(fā)光二極管，其在顯示領(lǐng)域的應(yīng)用本應(yīng)水到渠成。然而，長期以來，除了戶外廣告屏上的應(yīng)用外，LED顯示應(yīng)用一直未能廣泛發(fā)展。
其原因在于：
▶首先，要實現(xiàn)手機屏/電視級別的顯示器，LED像素在尺寸上難以做��；
▶其次，LED外延晶片與顯示驅(qū)動工藝不兼容，且需考慮大尺寸顯示的問題，因此針對Micro LED需要開發(fā)合適的背板技術(shù)；
▶最后，“巨量”的三色微小LED如何轉(zhuǎn)移到已制作好驅(qū)動電路的基底上，即“巨量轉(zhuǎn)移”技術(shù)，也是決定Micro LED能否商業(yè)化的關(guān)鍵。
由于像素單元低至微米量級，Micro LED顯示產(chǎn)品在多項性能指標(biāo)上展現(xiàn)出優(yōu)勢。其功率消耗量僅為LCD的10%、OLED的50%，亮度可達(dá)OLED的10倍，分辨率可達(dá)OLED的5倍。
在設(shè)備兼容性方面，Micro LED有望承接液晶顯示高度成熟的電流驅(qū)動TFT技術(shù)，在未來顯示技術(shù)演進(jìn)進(jìn)程中具有一定優(yōu)勢。據(jù)分析，2024年Micro LED顯示的市場銷售額將達(dá)到6.94億美元，略高于Mini LED顯示。
二、顯示原理與制備工藝
Micro LED顯示原理主要涉及到LED結(jié)構(gòu)的薄膜化、微小化和陣列化。
1、LED結(jié)構(gòu)的薄膜化、微小化和陣列化：
①Micro LED的尺寸非常小，通常在1~10μm（微米）的等級。
②微小的LED結(jié)構(gòu)被設(shè)計成陣列形式，以便在顯示屏幕上形成像素點。
2、μLED的批量式轉(zhuǎn)移：
①將這些微小的LED結(jié)構(gòu)批量轉(zhuǎn)移到電路基板上。
②電路基板可以是硬性或軟性的，也可以是透明或不透明的。
3、物理沉積制程：
①在μLED上，利用物理沉積制程完成保護(hù)層的制作。
②同時，也完成上電極的制作。
4、上基板的封裝：
進(jìn)行上基板的封裝，從而完成一個結(jié)構(gòu)簡單的Micro LED Display。
Micro LED顯示原理是通過將LED結(jié)構(gòu)設(shè)計成微小、薄膜化的形式，并將其陣列化，然后轉(zhuǎn)移到電路基板上，再通過物理沉積制程完成保護(hù)層和電極的制作，最后進(jìn)行封裝，形成一個結(jié)構(gòu)簡單的Micro LED顯示屏。這種顯示屏具有高分辨率、高亮度、低功耗等優(yōu)點，是未來顯示技術(shù)的重要發(fā)展方向之一。
5、Micro LED典型結(jié)構(gòu)
Micro LED的典型結(jié)構(gòu)是一個PN接面二極管，由直接能隙半導(dǎo)體材料構(gòu)成。這種結(jié)構(gòu)使得Micro LED在顯示技術(shù)中展現(xiàn)出獨特的性能與優(yōu)勢。以下是對Micro LED典型結(jié)構(gòu)及其特性的詳細(xì)解析：
Micro LED的典型結(jié)構(gòu)是一個PN接面二極管，主要由以下幾部分組成：
①P型半導(dǎo)體：在PN結(jié)的一側(cè)，以空穴為主要載流子。
②N型半導(dǎo)體：在PN結(jié)的另一側(cè)，以電子為主要載流子。
③發(fā)光層：位于P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體之間，是電子和空穴復(fù)合發(fā)光的區(qū)域。
當(dāng)上下電極施加一順向偏壓于μLED時，電流通過PN結(jié)，電子從N型半導(dǎo)體注入到P型半導(dǎo)體，同時空穴從P型半導(dǎo)體注入到N型半導(dǎo)體。在發(fā)光層中，電子和空穴復(fù)合，釋放出能量并以光子的形式發(fā)出單一色光。
⑴發(fā)光特性
▶高色飽和度：Micro LED發(fā)光頻譜的主波長的半高全寬（FWHM）僅約20nm，這提供了極高的色飽和度，通�？纱笥�120%NTSC，遠(yuǎn)超傳統(tǒng)顯示技術(shù)。
▶高光電轉(zhuǎn)換效率：自2008年以來，LED的光電轉(zhuǎn)換效率大幅提高，100 lm/W以上的LED已成量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。這使得Micro LED在顯示應(yīng)用中能夠更有效地利用電能轉(zhuǎn)化為光能。
⑵顯示優(yōu)勢
▶自發(fā)光特性：Micro LED作為自發(fā)光的顯示器件，無需背光模組，從而簡化了顯示器結(jié)構(gòu)，降低了能耗。
▶低能耗：由于Micro LED的自發(fā)光特性和幾乎無光耗的元件設(shè)計，其能耗僅為傳統(tǒng)TFT-LCD的10%~20%，這對于穿戴型裝置、手機、平板等設(shè)備尤為重要，可顯著延長電池續(xù)航力。
▶高亮度：Micro LED能夠輕易達(dá)到1000nits以上的亮度水平，遠(yuǎn)超傳統(tǒng)顯示技術(shù)。這使得Micro LED在戶外、半戶外等環(huán)境光較強的場合下仍能保持優(yōu)異的影像辨識度和色彩表現(xiàn)力。
Micro LED的典型PN接面二極管結(jié)構(gòu)賦予了其高色飽和度、高光電轉(zhuǎn)換效率以及自發(fā)光、低能耗、高亮度的顯示優(yōu)勢。這些特性使得Micro LED成為未來顯示技術(shù)的重要發(fā)展方向之一。
6、Micro 顯示原理
Micro LED顯示原理，特別是其像素結(jié)構(gòu)和陣列驅(qū)動方式，是這一先進(jìn)顯示技術(shù)的核心。
⑴像素結(jié)構(gòu)
Micro LED顯示采用成熟的多量子阱LED芯片技術(shù)。以InGaN基LED芯片為例，其像素單元結(jié)構(gòu)精心設(shè)計，從下往上依次為：
①藍(lán)寶石襯底層：作為外延生長的基底。
②GaN緩沖層：厚度通常為25nm，用于緩解外延生長過程中的應(yīng)力。
③N型GaN層：厚度約為3μm，是電子的主要注入層。
④有源層：包含多周期量子阱（MQW），是電子和空穴復(fù)合發(fā)光的區(qū)域。
⑤P型GaN接觸層：厚度約為0.25μm，是空穴的主要注入層。
⑥電流擴(kuò)展層：用于提高電流注入的均勻性。
⑦P型電極：用于與外部電路連接。
當(dāng)像素單元加正向偏電壓時，P型GaN接觸層的空穴和N型GaN層的電子均向有源層遷移，并在那里發(fā)生電荷復(fù)合，復(fù)合后的能量以發(fā)光形式釋放。
⑵陣列驅(qū)動
Micro LED的像素單元通過特定的制備步驟實現(xiàn)矩陣化和集成化。其陣列驅(qū)動方式主要包括三種：
①被動選址驅(qū)動（PM）：
▶像素電極做成矩陣型結(jié)構(gòu)。
▶每一列（行）像素的陽（陰）極共用一個列（行）掃描線。
▶通過同時選通特定的行和列掃描線來點亮對應(yīng)的LED像素。
▶高速逐點（或逐行）掃描各個像素以實現(xiàn)整個屏幕的畫面顯示。
②主動選址驅(qū)動（AM）：
▶每個Micro LED像素有其對應(yīng)的獨立驅(qū)動電路。
▶驅(qū)動電流由驅(qū)動晶體管提供。
▶基本的主動矩陣驅(qū)動電路為雙晶體管單電容電路，包括選通晶體管、驅(qū)動晶體管和存儲電容。
▶為了提高灰階等顯示能力，可以采用更復(fù)雜的主動矩陣驅(qū)動電路。
③半主動選址驅(qū)動：
▶采用單晶體管作為Micro LED像素的驅(qū)動電路。
▶可以較好地避免像素之間的串?dāng)_現(xiàn)象。
▶每列驅(qū)動電流信號需要單獨調(diào)制。
▶性能介于主動驅(qū)動和被動驅(qū)動之間。
Micro LED顯示原理通過其獨特的像素結(jié)構(gòu)和陣列驅(qū)動方式實現(xiàn)了高分辨率、高亮度、低功耗和優(yōu)異的色彩表現(xiàn)。這些特性使得Micro LED成為未來顯示技術(shù)的重要發(fā)展方向之一。
7、芯片制備
Micro LED芯片的制備是一個復(fù)雜且精細(xì)的過程，涉及到多個關(guān)鍵步驟。以下是對Micro LED芯片制備流程的詳細(xì)解析：
⑴襯底制備
①材料選擇：Micro LED芯片通常選用藍(lán)寶石（Al₂O₃）、硅（Si）或碳化硅（SiC）等材料作為襯底。藍(lán)寶石襯
因其生產(chǎn)技術(shù)成熟、器件質(zhì)量較好且穩(wěn)定性高而被廣泛應(yīng)用。
②清洗處理：使用有機溶劑和酸液對襯底進(jìn)行徹底清洗，以去除表面的雜質(zhì)和污染物。
③圖形化處理：采用干法刻蝕技術(shù)，在清洗后的襯底上制備出圖形化藍(lán)寶石襯底，為后續(xù)的外延生長提供精確的模板。
⑵中間層制備
外延生長：利用金屬有機化學(xué)氣相沉積（MOCVD）技術(shù)進(jìn)行氣相外延生長。在高溫條件下，依次生長GaN緩沖層、N型GaN層、多層量子阱（MQW）和P型GaN層。這一過程中需要精確控制溫度、壓力、氣體流量等參數(shù)，以確保各層薄膜的質(zhì)量和性能。
⑶臺階刻蝕
①光刻膠圖形化：在外延片表面涂覆光刻膠，并通過光刻工藝形成圖形化光刻膠掩模。
②ICP刻蝕：利用感應(yīng)耦合等離子體刻蝕（ICP）工藝，通過圖形化光刻膠掩模對外延片進(jìn)行刻蝕，直至達(dá)到N型GaN層。這一步驟用于定義Micro LED芯片的幾何形狀和尺寸。
⑷導(dǎo)電層制備
①濺射沉積：在樣品表面濺射沉積氧化銦錫（ITO）導(dǎo)電層。ITO具有良好的導(dǎo)電性和透光性，適用于Micro LED芯片的透明電極。
②光刻圖形化：通過光刻工藝對ITO導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化處理，形成所需的電極圖案。
⑸絕緣層制備
①PECVD沉積：利用等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）法沉積SiO₂絕緣層。SiO₂具有良好的絕緣性能，用于隔離不同的電極層。
②光刻與濕法刻蝕：對SiO₂絕緣層進(jìn)行光刻和濕法刻蝕處理，以形成所需的絕緣結(jié)構(gòu)。
⑹ 電極制備
①圖形化光刻膠：采用剝離法等方法制備出圖形化光刻膠掩模。
②電子束蒸發(fā)：在圖形化光刻膠掩模的保護(hù)下，通過電子束蒸發(fā)工藝沉積金（Au）等金屬電極材料。
③剝離工藝：利用高壓剝離機等設(shè)備對光刻膠進(jìn)行剝離處理，最終得到圖形化的金屬電極。
⑺注意事項
①整個制備過程需要在超凈間環(huán)境中進(jìn)行，以避免灰塵和雜質(zhì)對芯片的影響。
②各工藝步驟需要嚴(yán)格控制參數(shù)，以確保芯片的性能和一致性。
③光刻和蝕刻等關(guān)鍵工藝需要使用高精度的設(shè)備和材料，以保證圖案的精度和質(zhì)量。
④封裝過程需要注意封裝材料的選擇和封裝工藝的優(yōu)化，以提高芯片的可靠性和光學(xué)性能。
⑤測試和篩選過程需要使用專業(yè)的測試設(shè)備和方法，以確保芯片的性能符合要求。
通過以上步驟，可以制備出高質(zhì)量的Micro LED芯片，這些芯片具有微縮化、矩陣化和集成化的特點，廣泛應(yīng)用于高清顯示、可穿戴設(shè)備、虛擬現(xiàn)實等領(lǐng)域。
Micro LED瓶頸——“巨量轉(zhuǎn)移”技術(shù)
Micro LED技術(shù)中的“巨量轉(zhuǎn)移”（Mass Transfer）技術(shù)是當(dāng)前商業(yè)化進(jìn)程中的一大瓶頸。這一技術(shù)涉及將數(shù)以百萬計甚至數(shù)千萬計的微小LED芯片精確且高效地轉(zhuǎn)移到驅(qū)動電路基底上，并實現(xiàn)電路連接，其難度和復(fù)雜性極高。
⑴巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的挑戰(zhàn)
①像素數(shù)量巨大：無論是TV還是手機屏幕，像素數(shù)量都非常龐大，且每個像素的尺寸極小，這對轉(zhuǎn)移效率和成功率提出了極高要求。
②顯示質(zhì)量要求：顯示產(chǎn)品對像素錯誤的容忍度極低，任何“亮點”或“暗點”都會影響用戶體驗，因此轉(zhuǎn)移過程必須高度精確。
③技術(shù)難度高：巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)需要克服傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)在轉(zhuǎn)移效率和精度上的限制，同時保證轉(zhuǎn)移過程中芯片不受損傷。
⑵巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的流派
根據(jù)原理的不同，巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)主要分為以下幾個流派：
①精準(zhǔn)抓取技術(shù)：
▶原理：利用機械臂或高精度打印頭直接抓取LED芯片并放置到目標(biāo)基底上。
▶代表廠商：Luxvue、Cooledge、VueReal等。
▶難點：需要高精度的對位系統(tǒng)和快速響應(yīng)的抓取機構(gòu)，以克服芯片尺寸小、數(shù)量多帶來的挑戰(zhàn)。
②自組裝技術(shù)：
▶原理：利用物理或化學(xué)力（如靜電力、磁力、流體力等）使LED芯片自動排列并轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底上。
▶代表廠商：SelfArray、eLux等。
▶優(yōu)點：自動化程度高，轉(zhuǎn)移速度快，適合大規(guī)模生產(chǎn)。
▶難點：需要精確控制自組裝過程中的各種參數(shù)，以確保轉(zhuǎn)移精度和良率。
③選擇性釋放技術(shù)：
▶原理：通過激光或其他能量源直接作用于LED芯片與源基底的交界面，使芯片從源基底上釋放并轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底上。
▶代表廠商：Uniqarta、Coherent等。
▶優(yōu)點：轉(zhuǎn)移效率高，對位精度高。
▶難點：需要精確控制能量源的作用參數(shù)，以避免對芯片造成損傷。
④轉(zhuǎn)印技術(shù)：
▶原理：利用滾輪或其他轉(zhuǎn)印工具將LED芯片從源基底上轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底上。
▶代表廠商：KIMM等。
▶優(yōu)點：適用于大面積轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移速度快。
▶難點：需要保證轉(zhuǎn)印過程中的均勻性和一致性，以避免出現(xiàn)錯位或遺漏等問題。
⑶巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的未來趨勢
隨著Micro LED技術(shù)的不斷發(fā)展，巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)也在不斷進(jìn)步和完善。未來，巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)將更加注重以下幾個方面的提升：
①提高轉(zhuǎn)移效率和成功率：通過優(yōu)化轉(zhuǎn)移工藝和設(shè)備性能，進(jìn)一步提高轉(zhuǎn)移。
②增強轉(zhuǎn)移精度和穩(wěn)定性：加強對轉(zhuǎn)移過程中各種參數(shù)的精確控制，確保轉(zhuǎn)移精度和穩(wěn)定性滿足高端顯示產(chǎn)品的要求。
③推動自動化和智能化發(fā)展：利用機器學(xué)習(xí)和人工智能等技術(shù)手段，推動巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的自動化和智能化發(fā)展，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)是Micro LED商業(yè)化進(jìn)程中的關(guān)鍵瓶頸之一。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和完善，相信這一瓶頸將逐漸被打破，推動Micro LED技術(shù)在高端顯示領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用和發(fā)展。
三、Micro LED的六大核心難關(guān)
Micro LED技術(shù)確實面臨著一系列的挑戰(zhàn)，其中六大核心難關(guān)尤為突出。包括外延片與晶圓制備、像素組裝、缺陷監(jiān)測、全彩化、光提取與成型等，每一步都充滿了技術(shù)挑戰(zhàn)。其產(chǎn)業(yè)鏈同樣廣泛，涉及芯片制造、巨量轉(zhuǎn)移、面板制造、封裝/模組，以及最終的應(yīng)用和相關(guān)配套產(chǎn)業(yè)。然而，Micro LED芯片的微小化使得傳統(tǒng)制造技術(shù)難以適用，各環(huán)節(jié)都需面對全新的技術(shù)難題，導(dǎo)致成本高昂，這也限制了Micro LED芯片在當(dāng)前市場的滲透率。
1、難點一：微縮芯片及外延
①挑戰(zhàn)：需要將芯片尺寸微縮至50um以下，同時滿足高PPI需求。這要求在外延制備、光刻、蝕刻、磊晶剝離、電測等環(huán)節(jié)都實現(xiàn)精細(xì)化工藝和良率提升。
②影響：隨著LED芯片尺寸變小，蝕刻過程中的側(cè)壁缺陷會影響內(nèi)部量子效率，導(dǎo)致外部量子效率減弱。
2、難點二：巨量轉(zhuǎn)移
①挑戰(zhàn)：需要將大量微小的LED晶粒準(zhǔn)確且高效地轉(zhuǎn)移至電路板上。例如，4K顯示需要轉(zhuǎn)移超過2000萬顆晶粒，這對轉(zhuǎn)移效率和良率控制提出了極高要求。
②影響：巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的突破是實現(xiàn)Micro LED商業(yè)化落地的關(guān)鍵。目前，業(yè)內(nèi)的主流解決方案包括靜電吸附、相變化轉(zhuǎn)移、流體裝配、滾軸轉(zhuǎn)印、磁力吸附、范德華力轉(zhuǎn)印、激光轉(zhuǎn)移等。
3、難點三：全彩化
①挑戰(zhàn)：實現(xiàn)全彩顯示是Micro LED的核心技術(shù)難點之一。目前，Micro LED在近眼顯示領(lǐng)域尚無法實現(xiàn)全彩的高亮顯示。
②影響：現(xiàn)有的全彩化方案工藝復(fù)雜度較高，且存在相應(yīng)的短板。未來，隨著量子點技術(shù)的完善，UV/藍(lán)光LED+發(fā)光介質(zhì)法有望成為全彩化的主流技術(shù)。
4、難點四：檢測
①挑戰(zhàn)：在百萬甚至千萬級的芯片中對缺陷晶粒進(jìn)行檢測、修復(fù)或替換是一個巨大的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的測試設(shè)備難以使用。
②影響：現(xiàn)有的解決方案包括光致發(fā)光測試和電致發(fā)光測試，但這些方法可能面臨檢測精度和效率的挑戰(zhàn)。
5、難點五：芯片封裝
①挑戰(zhàn)：Micro LED芯片間距小，導(dǎo)致貼片難度增加，成本也會面臨指數(shù)型增長。
②影響：現(xiàn)有的封裝方案以COB和COG為主，但新型封裝技術(shù)MIP在成本和效率上更具優(yōu)勢，并有望成為未來的主流技術(shù)。
6、難點六：基板制造
①挑戰(zhàn)：Micro LED需要在平整的基板上實現(xiàn)巨量轉(zhuǎn)移，這對基板材料的選擇和制造工藝提出了更高要求。
②影響：玻璃基板在Micro LED技術(shù)中發(fā)展?jié)摿Ω�，因為它更容易實現(xiàn)平整度和精度要求�；鍙S商需要為巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)做好承接準(zhǔn)備。
Micro LED技術(shù)面臨著從芯片制造到基板制造的全方位挑戰(zhàn)。這些難關(guān)的攻克需要產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)的共同努力和技術(shù)創(chuàng)新。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和突破，相信Micro LED技術(shù)將在未來實現(xiàn)更廣泛的應(yīng)用和商業(yè)化落地。
盡管Micro LED技術(shù)面臨諸多挑戰(zhàn)，但其獨特的優(yōu)勢和廣闊的應(yīng)用前景使得業(yè)界對其充滿了期待。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和成本的降低，Micro LED有望在未來成為顯示領(lǐng)域的新霸主，引領(lǐng)一場顯示技術(shù)的革命。
綜上所述，Micro LED技術(shù)正處于快速發(fā)展的前沿階段，雖然面臨著重重挑戰(zhàn)，但其巨大的潛力和廣闊的應(yīng)用前景使得這項技術(shù)備受矚目。未來，隨著技術(shù)的不斷突破和成本的進(jìn)一步降低，Micro LED有望成為顯示領(lǐng)域的新一代霸主。
