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可替代用于OLED、LCD等設(shè)備LTPS的全新TFT技術(shù)
更新時(shí)間:2018-8-17 11:33:53 編輯:夢(mèng)梵 文章來(lái)源:中國(guó)視聽(tīng)網(wǎng) 調(diào)整文字大小:【

據(jù)外媒報(bào)道,總部位于美國(guó)的Solar-Tectic公司,日前在賓漢姆頓大學(xué)和Blue Wave Semiconductor的協(xié)助下,獲得了全新薄膜晶體管(TFT)技術(shù)專(zhuān)利,該技術(shù)將有助于提高有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)、有源矩陣OLEDAMOLEDs)、液晶設(shè)備(LCD)顯示器以及太陽(yáng)能電池設(shè)備的效率并降低其成本。

與用于制造驅(qū)動(dòng)顯示器像素并需要昂貴的準(zhǔn)分子激光退火的TFT的傳統(tǒng)低溫多晶硅(LTPS)工藝不同,這種新工藝是由金屬誘導(dǎo)結(jié)晶(MIC)衍生而來(lái)的,并且使用改性液相外延電子束工藝,能夠在低至232°C的溫度下,在金屬氧化物,如氧化鎂緩沖基板上沉積薄金屬層,然后沉積最終的汽化硅(Si)層并結(jié)晶成約50100nm厚的薄膜,整個(gè)流程沒(méi)有任何金屬殘余物。

通過(guò)使用拉曼光譜和X射線光譜對(duì)Si膜進(jìn)行的分析顯示出了高達(dá)188cm2/Vs的電子遷移率(而傳統(tǒng)的LTPS電子遷移了則為100cm2/Vs)。

研究人員希望通過(guò)使用STBWS定向的MgO111)薄膜緩沖基板進(jìn)一步提高晶體尺寸,從而進(jìn)一步提高電子遷移率,最終提高設(shè)備效率并有效降低成本。

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