隨著華為被斷供,讓很多人知道即使一家企業(yè)能設(shè)計(jì)出高端芯片,但其“存亡”依舊被臺積電和ASML控制,而臺積電和ASML均被美國控制。光刻機(jī)對制造芯片很關(guān)鍵,實(shí)際上光刻機(jī)對制造芯片僅占40%的工序,與光刻機(jī)同一樣,光刻膠也非常重要,很多人知道光刻機(jī),卻不知道光刻膠,這是集成電路的一種重要材料,將光刻膠做涂層,就能在硅片表面刻蝕所需電路圖形,是光刻機(jī)的核心材料。
雖然我國是半導(dǎo)體生產(chǎn)大國,特別是液晶面板,但是都處于產(chǎn)業(yè)鏈下游,液晶面板用的光刻膠幾乎全是依賴進(jìn)口,被島國幾家公司牢牢掌握。即使是國產(chǎn)標(biāo)桿京東方也需要從海外采購,自主研發(fā)這個太難了,目前我國最先進(jìn)的是300多nm。而現(xiàn)在,南大光電ARF光刻膠可用于7nm,這是國產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的又一次進(jìn)步,打破了美日壟斷,也可以躋身一流市場。
首先帶來好消息的是上海微電子成功突破技術(shù)瓶頸,首臺國產(chǎn)28nm光刻機(jī)將在2021年量產(chǎn)交付,雖然與當(dāng)前7nm工藝制程有4代左右的技術(shù)代差,但也可以滿足了除手機(jī)芯片以外的幾乎所有芯片的工藝制程要求,對于我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展還是具有里程碑式的意義。
更令人可喜的是在光刻技術(shù)的基礎(chǔ)理論上也取得了重大進(jìn)展。武漢甘棕松團(tuán)隊(duì)采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制,采用遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法,光刻出最小9nm線寬的線段,實(shí)現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新。所以,一旦將該技術(shù)運(yùn)用到光刻機(jī)領(lǐng)域,那么我國實(shí)現(xiàn)在光刻機(jī)領(lǐng)域的彎道超車也是指日可待。
國產(chǎn)最先進(jìn)光刻機(jī)企業(yè)微電子一旦突破高端水平,就可以將設(shè)備賣給中芯國際,最終美國控制的ASML和臺積電的壟斷優(yōu)勢即將消失。目前中芯國際也在不斷發(fā)力,都知道中芯國際最近動作頻繁,有了華為這個大客戶后,中芯的底氣足了很多,麒麟710A從臺積電手中拿下,現(xiàn)在7nm又有華為深度協(xié)助,而且回A上市募資234億元,國內(nèi)又戰(zhàn)略注資150億,促進(jìn)中芯規(guī)模量產(chǎn)和先進(jìn)制程研發(fā)。
排名世界第三的美國,半導(dǎo)體企業(yè)格羅方德耗資700億在成都建立公司,因?yàn)榉艞?nm,轉(zhuǎn)而研發(fā)微電子和光電子芯片慘敗,市場份額也被國產(chǎn)代工廠壓縮,狼狽離開。其中國區(qū)副總裁宣布加入中芯國際,為先進(jìn)制程業(yè)務(wù)接單。這是因?yàn)橹行镜?nm馬上就要量產(chǎn)了,N+1的研發(fā)進(jìn)程穩(wěn)定,已進(jìn)入客戶導(dǎo)入及產(chǎn)品認(rèn)證階段。格羅方德副總裁的加入,會推動芯片業(yè)務(wù),回籠資金用于5nm和3nm的研發(fā),中芯國際已經(jīng)開始加速追趕臺積電,使命重大?傊,隨著上海微電子和中芯國際的不斷突破,華為就不再擔(dān)心臺積電的斷供。